2單靶直流磁控濺射儀--VTC-16-SM

簡要描述：VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個(gè)2英寸水冷靶頭和可旋轉(zhuǎn)樣品臺，外形小巧，性價(jià)比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設(shè)備，可選配各種金屬靶材和真空泵。

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詳細(xì)介紹

VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個(gè)2英寸水冷靶頭和可旋轉(zhuǎn)樣品臺，外形小巧，性價(jià)比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設(shè)備，可選配各種金屬靶材和真空泵。

用直流磁控濺射儀可獲得單相Al膜

技術(shù)參數(shù)

輸入電壓	AC 208V ~ 240V, 50/60 Hz
輸入功率	< 2000W
輸出功率	電壓：1600VDC zui大電流：150mA
腔體	石英腔體：167mm OD. x 152mm ID x 260mm Height
濺射頭和樣品臺	2英寸帶水冷磁控濺射頭一個(gè)直徑50mm不銹鋼樣品臺，樣品臺可旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)速率0 - 5 RPM 配有一手動(dòng)操作的擋板，包含靶頭支撐架樣品臺和靶頭之間的距離可以調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)范圍：60-100mm （點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料）
控制面板	6" PLC集成觸摸屏控制面板，可控制真空、電流、靶材位置和基片加熱溫度
附件（可選）	雙極旋片真空泵VRD-8，KF25接口 KF25不銹鋼波紋管 10L/min 循環(huán)水冷機(jī)冷卻磁控靶頭
氣氛	含一個(gè)控制進(jìn)氣的針閥和一個(gè)放氣閥
靶材	靶材尺寸: 50 mm dia. x 0.50 -2 mm 適合濺射Au,Ag,Cu,Al,Cr,Ti,Sn,Ni等金屬，可選購
可選配件	膜厚監(jiān)測儀分子泵，可獲得高真空， >10E-5 torr 為獲得的薄膜強(qiáng)度，建議鍍膜前用等離子清洗機(jī)對基片進(jìn)行清洗。 500度樣品加熱臺
體積	( L 440mm×W 330mm × H 290mm
凈重	20 kg ( not included pump )
質(zhì)保和證書	一年質(zhì)保，終生維護(hù) CE認(rèn)證
磁控濺射鍍膜知識	與客戶分享的磁控濺射鍍膜技術(shù)，請點(diǎn)擊文章鏈接- Plasma Sputter Coating.