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5-24
目前,隨著真空爐在市場上的分類品種不斷增多之后,在加工熱處理的過程中,都有著多元化的技術(shù)要求,為的就是達(dá)到了理想的性能標(biāo)準(zhǔn)。這在熱處理方式上都必須要嚴(yán)格的去掌握好,才能夠確保在各方面的性能等級上會更高的。因此,小型真空管式爐在處理方面主要有哪些優(yōu)點(diǎn)呢?1、真空爐在加熱的時候,對工件表面上出現(xiàn)的氧化或者脫碳現(xiàn)象,是可以帶來了很好的清潔效果,因此完成加工之后,表面上是不會有著變質(zhì)層的,可以說對工件品質(zhì)的提高也是會起到了很大的幫助。掌握好這在加工處理方面的工藝性能和技術(shù)要求,才能夠...
4-25
3靶等離子濺射儀是一種基于兩極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)的簡單,可靠且經(jīng)濟(jì)的涂覆設(shè)備。在真空室中安裝了三個靶材,旋轉(zhuǎn)的樣品臺可以在同一樣品上依次涂覆三種材料。因此,它適用于實(shí)驗(yàn)室中各種復(fù)合膜樣品的制備以及非導(dǎo)電材料實(shí)驗(yàn)電極的生產(chǎn)。1、電子束敏感樣品主要包括生物樣品,塑料樣品等。在與樣品相互作用的過程中,它以熱的形式將部分能量轉(zhuǎn)移到樣品中。如果樣品是對電子束敏感的材料,則這種相互作用將破壞部分甚至整個樣品結(jié)構(gòu)。在這種情況下,用非電子束敏感材料制成的表面涂層可以用作保護(hù)層,以防止這...
4-20
雙靶磁控濺射儀主要由陶瓷靶/電解液制備部分,電極膜沉積系統(tǒng)和惰性氣氛手套箱組成,主要組件包括有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室,真空排氣系統(tǒng)和真空測量系統(tǒng),蒸發(fā)源,樣品加熱溫度控制,電氣控制系統(tǒng),氣體分配系統(tǒng),高溫?zé)Y(jié)爐,手套箱等零件。通過采用其中真空沉積室被手套箱包裹的結(jié)構(gòu)模型,將熱蒸發(fā)沉積室放置在手套箱中。在水和氧氣≤1PPM的氣氛中,可以更方便地完成:更換樣品,更換蒸發(fā)材料,連續(xù)制備鋰和金屬薄膜,陶瓷燒結(jié)和電池包裝;沉積室也可以通過過渡室取出。由于保護(hù)了惰性氣氛,因此在實(shí)驗(yàn)中可以提...
10-27
高溫高壓爐是一種電爐,它利用電極電弧產(chǎn)生礦石和金屬的高溫冶煉,氣體放電時形成電弧時,能量集中,溫度可達(dá)3000℃以上,它能有效去除硫,磷等雜質(zhì),提供鋼材,易于控制爐溫,設(shè)備占地面積小,適用于冶煉優(yōu)質(zhì)合金鋼。高溫高壓爐除塵一般在電弧爐上方使用錐形煙灰捕集器,煙塵收集器通過風(fēng)扇連接到除塵設(shè)備,該風(fēng)扇可以將灰塵吸收到集塵袋中。鼓風(fēng)機(jī)將空氣吹到電弧爐的下部,便于清潔電弧爐時使用;它不僅可以減少環(huán)境污染,改善工作環(huán)境,還可以回收原材料。過濾材料根據(jù)煙氣粉塵的特性進(jìn)行定制,并縫入電弧爐集...
9-26
超聲波霧化模塊是使用超聲波霧化原理工作的組件,它通常用作加濕產(chǎn)品的核心組件,因此也稱為超聲霧化配件,稱為霧化配件。它廣泛用于家庭濕度調(diào)節(jié),工業(yè)加濕和呼吸道疾病的醫(yī)學(xué)治療。霧化過程中會釋放出大量負(fù)離子,這些負(fù)離子將與空氣中漂浮的煙霧和灰塵結(jié)合在一起,靜電處理將沉淀并過濾掉它們,從而可以有效去除有害物質(zhì)和氣味。超聲波霧化模塊的原理:壓電陶瓷板安裝在水容器的底部,驅(qū)動控制電路產(chǎn)生與霧化板的諧振頻率一致的驅(qū)動電壓。當(dāng)驅(qū)動電壓施加到霧化板上時,霧化板將產(chǎn)生振蕩能量。在水表面的情況下,大...
8-24
人們使用的移動屏幕的光滑手感來自AF技術(shù),該技術(shù)具有疏水性,疏水性,抗指紋和自清潔功能。AF熱噴涂鍍膜設(shè)備是一種薄膜技術(shù),利用高壓將AF溶液均勻地噴涂在產(chǎn)品表面。該設(shè)備具有操作簡單,連續(xù)運(yùn)行,環(huán)保無污染,效率高,質(zhì)量高,自動化程度高的優(yōu)點(diǎn)。1、防污染:防止指紋或油漬附著在產(chǎn)品表面,易于清潔;2、耐刮擦:表面光滑,防止用戶被刮擦;3、耐磨性:耐磨性;4、水滴角:大于110度;5、耐汗測試:大于100度;6、熱噴涂鍍膜設(shè)備輕巧,可以在現(xiàn)場使用;7、過程靈活,操作程序少。它可以快速...
7-27
等離子鍍膜設(shè)備是一種基于直流輝光放電的鍍膜設(shè)備,它采用了一種新的四氧化PCVD方法來獲得薄膜。它不同于傳統(tǒng)的濺射和蒸發(fā),解決了薄膜的顆粒和熱損傷問題。它可用于在SEM和FE-SEM樣品上涂覆導(dǎo)電膜或在TEM樣品上涂覆支撐膜。涂層的厚度范圍從幾納米到幾百納米,甚至小于1納米。1.自動控制,只需要設(shè)定涂膜厚度,涂裝過程即可自動完成。2.記憶存儲器可以拆卸:具有密封結(jié)構(gòu),可以冷凍保存。3.涂覆時間短:薄膜厚度僅需幾秒鐘即可達(dá)到納米級。4.配備互鎖電路:一旦OsO4氣體進(jìn)入腔體,如果...
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