PECVD管式爐

簡(jiǎn)要描述：OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD（等離子體氣相沉積）管式爐系統(tǒng)。此套設(shè)備帶有500W的等離子射頻電源，一個(gè)爐管直徑為50mm的開(kāi)啟式管式爐（帶有真空法蘭和連接管道）和一個(gè)直聯(lián)式雙旋機(jī)械泵。因此這套設(shè)備模型可以更新為不同的PECVD 系統(tǒng)。對(duì)于有限的經(jīng)費(fèi)的情況下來(lái)進(jìn)行材料探索，此套系統(tǒng)極為理想。

產(chǎn)品型號(hào)：-OTF-1200X-50-PE-S
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間：2024-10-22
訪問(wèn) 量：6896

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PECVD管式爐在材料科學(xué)中的應(yīng)用與技術(shù)展望

詳細(xì)介紹

OTF-1200X-50-PE-S是一款小型的PE-CVD（等離子體氣相沉積）管式爐系統(tǒng)。此套設(shè)備帶有500W的等離子射頻電源，一個(gè)爐管直徑為50mm的開(kāi)啟式管式爐（帶有真空法蘭和連接管道）和一個(gè)直聯(lián)式雙旋機(jī)械泵。因此這套設(shè)備模型可以更新為不同的PECVD 系統(tǒng)。對(duì)于有限的經(jīng)費(fèi)的情況下來(lái)進(jìn)行材料探索，此套系統(tǒng)極為理想。

特征：

1、與普通CVD相比可以在低溫環(huán)境下進(jìn)行氣相沉積實(shí)驗(yàn)

2、對(duì)于薄膜的應(yīng)力可以通過(guò)射頻電源的頻率來(lái)進(jìn)行控制

3、通過(guò)工藝調(diào)節(jié)來(lái)控制化學(xué)計(jì)量

4、能夠廣泛地用于各種材料沉積，如SiOx, SiNx, SiOxNy 和無(wú)定型硅(a-Si:H) 等.

技術(shù)參數(shù)

開(kāi)啟式管式爐	輸入電源：208 – 240V AC, 1.2kW zui高工作溫度1200℃（小于1小時(shí)）連續(xù)使用溫度1100℃ 采用高純氧化鋁作為爐膛材料，并且表面涂有美國(guó)進(jìn)口高溫氧化鋁涂層，可延長(zhǎng)儀器使用壽命和提高加熱效率高純石英爐管，尺寸為 50mmOD x 44mmID x 780mmL 可設(shè)置30段升降溫程序，并帶有過(guò)熱和斷偶保護(hù) 加熱區(qū)長(zhǎng)度為200mm,恒溫區(qū)長(zhǎng)度為60mm(+/-1°C) （點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料）
等離子體射頻電源	輸出功率: 5 -500W可調(diào) 穩(wěn)定性為+/-1% 射頻電源頻13.56 MHZ, 穩(wěn)定性±0.005% zui大反向功率: 200W max 射頻電源電子輸出口: 50 Ω, N型半島體, 陰極噪聲<50 dB. 冷卻方式：空氣冷卻輸入電源: 208-240VAC, 50/60Hz
真空法蘭和接頭	真空法蘭采用304不銹鋼制作左端法蘭上安裝有防腐型數(shù)字真空計(jì)、不銹鋼針閥和一個(gè)球閥。右端法蘭設(shè)計(jì)為KF25接口，上面配有泄氣閥，擋板閥和兩個(gè)KF25卡箍儀器中所配的數(shù)字真空計(jì)，可以不用因使用氣體的不同而進(jìn)行校正，同時(shí)還具有防腐功能（請(qǐng)點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)介紹）
真空泵	AC 220V 50 Hz 1/2HP 375W 2L/s 與本公司管式爐配套使用，可使其真空度達(dá)到10-2 torr 進(jìn)氣端帶有儲(chǔ)氣球（防止回油），出氣端安裝有油霧過(guò)濾器（防止油霧擴(kuò)散到空氣中，保護(hù)環(huán)境和人體健康）
產(chǎn)品尺寸和重量	外形尺寸：1500mm x 600mm x 1200mm( L x W x H) 凈重: 160 lbs
可選配置	請(qǐng)點(diǎn)擊查看下面的混氣及氣液混合系統(tǒng) 防腐型小型三路浮子混氣系統(tǒng) 精密氣液混合系統(tǒng) 三路質(zhì)子混氣系統(tǒng)
質(zhì)保期	一年質(zhì)保期，終生維護(hù)（不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件）
質(zhì)量認(rèn)證	CE Certified